特許

J-GLOBAL ID：200903007953289156

脂環構造を有する新規ラクトン化合物及びその製造方法

発明者： 金生 剛 ,  長谷川 幸士 ,  渡辺 武 ,  西 恒寛 ,  中島 睦雄 ,  橘 誠一郎 ,  畠山 潤
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-146056
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053571
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるラクトン化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R2は水素原子、又は炭素数1〜15のアシル基もしくはアルコキシカルボニル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。Zは、炭素数1〜15の2価の有機基を示し、式(1)中のカルボニルオキシ基と共にラクトン環を形成する。kは0又は1、mは0≦m≦5を満たす整数である。)【効果】 本発明のラクトン化合物を重合することにより得られるポリマーを用いて調製したレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れ、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特に、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さく、かつ基板密着性に優れるため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成でき、超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるラクトン化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R2は水素原子、又は炭素数1〜15のアシル基もしくはアルコキシカルボニル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。Zは、炭素数1〜15の2価の有機基を示し、式(1)中のカルボニルオキシ基と共にラクトン環を形成する。kは0又は1、mは0≦m≦5を満たす整数である。)

IPC (5件)：

C07D307/33 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08 ,  C07D307/32 E ,  C07D307/32 F ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (29件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  4C037EA01 ,  4C037EA10 ,  4J032CA32 ,  4J032CA36 ,  4J032CG00 ,  4J100AK32Q ,  4J100AR11P ,  4J100BA04P ,  4J100BA11P ,  4J100BC27P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38