特許
J-GLOBAL ID：200903007960639286
イオン源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010818
公開番号（公開出願番号）：特開平6-223758
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【構成】 イオン源は、プラズマチャンバー3内で動作ガスをイオンと電子とに分離してプラズマを生成させ、上記プラズマ中のイオンを引き出してイオンビーム14を生成するものである。プラズマチャンバー3内には、プラズマ中のイオンおよび電子によりスパッタリングされた際に、プラズマ中のイオンと同一のイオンのみを生成させるコーティング層を有したライナー5...、ウインドウ11、およびシールド16が設けられている。【効果】 スパッタリングされたライナー5等のコーティング層からは、プラズマ中のイオンと同一のイオンのみが生成されるため、プラズマ中のイオンの種類が増加することがない。よって、イオン源は、目的とする種類のイオンにイオンビーム14を質量分析する際の困難化が防止できることになる。
請求項（抜粋）：
遮蔽部材が設けられたプラズマチャンバー内で動作ガスをイオンと電子とに分離してプラズマを生成させ、上記プラズマ中のイオンを引き出してイオンビームを生成するイオン源において、上記遮蔽部材は、上記プラズマ中のイオンおよび電子によりスパッタリングされた際に、上記プラズマ中のイオンと同一のイオンのみを生成させるコーティング層を有していることを特徴とするイオン源。
IPC (2件)：
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