特許
J-GLOBAL ID：200903007968853279
電子線描画装置におけるマーク検出方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084260
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297099
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 検出確度及び検出精度が向上された、電子線描画装置におけるマーク検出方法及び検出装置を実現する。【構成】 ステップ101でマークを認識しステップ102でエッジ検出する。エッジ数が指定数かをステップ103で判定し、そうでないとステップ109〜112でテンプレートマッチング法でエッジ検出条件を再設定する。再設定した検出条件でステップ102、103を実行し再度指定数でないとステップ109、113でテンプレート法で得たマーク中心をマーク位置とする。ステップ104で全マーク終了かを判定し未終了ならステップ101に戻り終了ならステップ105でマーク数が指定数かを判定し指定数ならステップ106で信頼度レベルを設定する。指定数ないとステップ108で指定本数の80%以上かを判定し80%以上ならステップ106で信頼度レベルを設定する。ステップ107で検出したマーク中心位置をメモリに格納する。
請求項（抜粋）：
電子線を発生させる電子線源と、この電子線源からの電子線を試料面上に走査させる電子線偏向制御系と、電子線が試料面上に投射されて発生する二次電子を検出する二次電子検出器と、この二次電子検出器からの検出信号に基づいて、上記偏向制御系の動作を制御する制御計算部とを有する電子線描画装置により、上記試料面上に形成された合わせマークを検出する電子線描画装置におけるマーク検出方法において、二次電子検出器からの検出信号波形の部分的な特徴を、所定の初期抽出条件に基づいて抽出する部分法を実行するステップと、抽出された波形の特徴が、所定のマークの特徴と略一致するか否かを判定するステップと、抽出された波形の特徴が所定のマークの特徴と一致しない場合には、上記波形の全体形状を認識する全体法により、波形の部分的な特徴の抽出条件を再設定する条件設定ステップと、上記再設定された抽出条件に基づいて、上記所定のマークの特徴と一致しなかった波形の部分的な特徴を抽出するステップと、上記再設定された抽出条件に基づいて抽出された部分的な特徴が、上記所定のマークの特徴と略一致するか否かを判定するステップと、上記波形の部分的特徴が上記所定のマークの特徴と略一致する場合には、上記波形の略中心位置を記憶するステップと、を備えることを特徴とする電子線描画装置におけるマーク検出方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
