特許
J-GLOBAL ID:200903007969138166

パルス素粒子ビームを用いるポリマー表面処理

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山崎 行造 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-522969
公開番号(公開出願番号):特表平9-511016
出願日: 1996年01月23日
公開日(公表日): 1997年11月04日
要約:
【要約】高エネルギー素粒子ビームを用いて照射することによってポリマーの表面及び表面の近くを処理する。パルスイオンビームを用いて達成される。商業的応用の広い範囲に有効であるように、ポリマー表面の化学的及び機械的特性を変える。
請求項(抜粋):
1 パルスイオンビームを用いてポリマーを処理する方法であって、高エネルギーイオンの少なくとも1つのパルスを用いてポリマーの表面を照射する工程であって、空間的に隣接するパルスの各々が10マイクロ秒より短い持続時間と0.01と10J/cm2との間の流束量を持つとともに約25keVを越えるイオン運動エネルギーを持つような工程を含む方法。2 請求項1の方法において、前記パルスが、1Hzより大きな繰り返し速度でポリマーの表面を繰り返し横切る方法。3 請求項1の方法において、前記イオン流束量は前記ポリマー内にイオントラック密度を作る程度であり、これにより、異なるイオントラックに沿って生成された反応生成物が該反応生成物の結合時間内で互いに相互作用する高い可能性を持つようになる方法。4 請求項1の方法において、第2層の材料を前記ポリマーの上方に配置する工程をさらに含み、これにより、前記第2層及び前記ポリマーの表面を照射すると、前記第2層が前記ポリマーの表面と結合するようになる方法。5 請求項1の方法において、前記ポリマーが照射の後に結合する材料を覆う層として前記ポリマーが存在する方法。6 請求項1の方法において、前記ポリマーの表面の上方にマスク層を配置する工程をされに含み、これにより、前記ポリマーの下方の領域を前記パルスイオンビームの影響から遮蔽する方法。7 請求項6の方法において、前記イオン流束量は前記マスク層によって遮蔽されていないポリマーの領域をエッチングにより取り除くのに十分である方法。8 請求項1の方法において、前記ポリマーの表面が熱分解されることになる方法。9 請求項1の方法において、照射されたポリマーが架橋される方法。10 請求項1の方法において、処理された層の導電率が変わる方法。11 請求項1の方法において、処理された層の光強度が変わる方法。12 請求項1の方法において、強度が増加しかつスクラッチ抵抗性を持つ方法。13 請求項1の方法において、溶解及び環境的損失への抵抗性が高まる方法。14 請求項1の方法において、前記照射は、前記ポリマーの化学的結合を分裂させるのに十分な強度であるが、その程度は、該分裂結合が再結合すると新たな化学的合成物の形状となる程度である方法。15 請求項1の方法において、前記照射の領域は、連続的な処理されたポリマー表面を形成するために、前記ポリマーを横切って重なるようにシフトする方法。16 請求項1の方法において、前記イオンは気相分子から作られるイオンである方法。17 請求項16の方法において、前記気相分子はH、He、N及びArから構成されるグループから選択される方法。18 請求項1の方法において、前記ポリマーは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ(メタクリル酸メチル)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(テトラフルオロエチレン)、ポリイミド、マイラー(Mylar)及びそれらの合成物からなるグループから選択される方法。19 請求項1の方法において、前記照射によって前記表面の粘性が変わる方法。20 請求項1の方法において、前記照射は前記表面の形態を変える方法。21 請求項1の方法において、前記照射によって前記表面がエッチングされる方法。22 請求項1の方法において、前記ポリマーに供給されたパルスごとの熱及びパルス間の間隔はポリマーの熱によって誘導される劣化が最小となる程度である方法。23 請求項2の方法において、連続的導通の期間が2分より大きい方法。24 請求項3の方法による生成物。
IPC (2件):
C08J 3/28 ,  C08L101:00

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