光または放射線感応性組成物とパターン形成方法とホトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-127776
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027441
出願日： 1991年05月30日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】光に対する感度が十分あり、遠紫外光等の短波長光を用いたリソグラフィには適した光または放射線感応性組成物を提供することである。【構成】主成分たるポリマーあるいはオリゴマーは、化学組成の骨格がシロキサン構造(-Si-O-)している。光または放射線により生じたアニオン種またはカチオン種により縮重合するような末端基あるいは側鎖基を持つポリマーである。このため本発明の光または放射線感応性組成物は光または放射線を照射した後、溶剤に対して不溶化する。この時、現像液としては有機溶媒を用いることができるだけでなく、末端基に極性を持たせることによりアルカリ水溶液によっても現像できる。本発明において光または放射線とは可視光、紫外光、遠紫外光、真空紫外光、X線、γ線、電子線、イオン線等を含むものである。

請求項（抜粋）：

シロキサン結合を骨格とするポリマーと、感光剤とでなる光および放射線感応性組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/075 511 , G03F 1/08 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , G03F 7/038 505 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 R , H01L 21/30 301 P

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-129642
特開昭56-088139
特開平2-110464

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