特許

J-GLOBAL ID：200903007984799799

基板洗浄方法、基板洗浄装置およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 難波 宏光 ,  藪田 貴士 ,  折居 武彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004016842
公開番号（公開出願番号）：WO2005-050724
出願日： 2004年11月12日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：

ウエハWを略水平姿勢で所定の回転数で回転させながらその表面に所定流量で純水を供給してウエハWをリンス処理した後に、ウエハWへの純水の供給流量を低減し、かつ、純水供給点をウエハWの中心から外側へ移動させる。こうして純水供給点の略外側で液膜を形成しながらウエハWをスピン乾燥処理する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を略水平姿勢で回転させながら、その表面に純水を供給して前記被処理基板をリンス処理し、その後に前記被処理基板への純水の供給流量をリンス処理時よりも低減し、かつ、前記被処理基板への純水供給点を前記被処理基板の中心から外側へ移動させて、前記純水供給点の略外側の領域で液膜を形成しながら、前記被処理基板をスピン乾燥処理する基板洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133

FI (8件)：

H01L21/304 651B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 648H ,  B08B3/02 B ,  B08B3/02 D ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500

Fターム (22件)：

2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088KA30 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB44 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD35 ,  3B201CD43