特許

J-GLOBAL ID：200903007984830254

円筒状基材の洗浄方法

発明者： 瀬古 真路 ,  中林 渉 ,  田中 一 ,  古澤 靖夫 ,  持地 潤二郎 ,  堀井 紀孝
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (2件)： 山田 正紀 ,  小杉 佳男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-168038
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000835
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】本発明は、例えば電子写真感光体等の基材として用いられる円筒状基材の洗浄方法に関し、洗浄効果をさらに向上させる。【解決手段】洗浄槽2内に洗浄液供給口5から洗浄液を供給してオーバフローさせる工程と、円筒状基材4を、洗浄槽2内の、円筒状基材4の貫通孔が気泡供給口6の上部に配置される位置に浸漬しその気泡供給口6から円筒状基材4の実質的に貫通孔内側のみに気泡を供給させながら洗浄する工程と、洗浄槽2から洗浄後の円筒状基材4を引き上げる工程と、洗浄槽4から洗浄後の円筒状基材4を引き上げた後の洗浄槽2内に気泡を供給する工程とを有する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

上面に開口を有するとともに下面に気泡を発生させる気泡供給口を有し、さらに槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給口を有する洗浄槽に、中央に貫通孔を有する円筒状基材を、該貫通孔を上下に向けた姿勢で浸漬させて洗浄する円筒状基材の洗浄方法において、 前記洗浄槽内に洗浄液を供給してオーバフローさせる工程と、 前記洗浄槽内に前記円筒状基材を浸漬して洗浄する工程と、 前記洗浄槽から洗浄後の前記円筒状基材を引き上げる工程と、 前記洗浄槽から洗浄後の前記円筒状基材を引き上げた後の該洗浄槽内に気泡を供給する工程とを有することを特徴とする円筒状基材の洗浄方法。

IPC (1件)：

B08B3/10

FI (1件)：

B08B3/10 Z

Fターム (11件)：

2H068AA54 ,  2H068EA05 ,  3B201AA18 ,  3B201AB08 ,  3B201AB43 ,  3B201BB04 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CA01 ,  3B201CB15 ,  3B201CC12