特許

J-GLOBAL ID：200903007987743476

成膜装置のクリーニングガスおよびクリーニング方法

発明者： 毛利 勇 ,  藤井 正 ,  中川 伸介
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196936
公開番号（公開出願番号）：特開平8-060368
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】成膜装置、治具、配管等に堆積した珪素、窒化珪素、タングステンをクリーニングするガスおよびそのクリーニング方法を提供する。【構成】CF4 またはC2 F6 に1〜50vol%のF2 、ClF3 、BrF3、BrF5 のうち少なくとも1種以上を混合せしめたガスで、これを用いてクリーニングし、特に、20〜500°Cの温度範囲でプラズマレスクリーニングする。

請求項（抜粋）：

珪素、窒化珪素、タングステンを成膜する装置の堆積物を除去するために、CF4 またはC2 F6 に0.1〜50vol%のF2 、ClF3 、BrF3 、BrF5 のうち少なくとも1種以上を混合せしめたことを特徴とするクリーニングガス。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-243775