特許
J-GLOBAL ID：200903008004318451
イオン源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
成田 擴其
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-311456
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128984
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 水素化物ガスを用いるイオン源において、水素またはヘリウムイオンの引出しを防止すること。【構成】 プラズマ室1には、導入口3から水素またはヘリウムで希釈された水素化物ガスが供給される。引出し電極系の引出し電極4の直上に、ビーム引出し孔の位置を避けてマグネット17を配置し、電極面にそって磁界(50ないし500ガウス)を生じさせる。高周波電源15から上部室壁2と引出し電極間に高周波電力を供給し、ガスを放電させてプラズマを生成する。水素またはヘリウムイオンは磁界で捕捉されてその引出しが抑制され、所要の元素、分子のイオンビームのみを引出すことができる。
請求項（抜粋）：
イオン源ガスとして水素化物ガスを用いるイオン源において、高周波あるいはマイクロ波電力による放電機構と、引出し電極の近傍のプラズマ室内に配置されて電極面に沿った磁界を発生させる複数個のマグネットとを備えてなることを特徴とするイオン源。
IPC (4件)：
H01J 37/08
, C23C 14/48
, H01J 37/317
, H01L 21/265
