特許
J-GLOBAL ID:200903008004322270
化学的機械的研磨用研磨布およびそれを用いた化学的機械的研磨装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
稲岡 耕作 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-342775
公開番号(公開出願番号):特開2000-158327
出願日: 1998年12月02日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】被研磨物の各領域を均一に研磨できる研磨布を提供する。【解決手段】研磨布20は、平板部21と、この平板部21上に形成された多数の円柱状突起22と、平板部21に穿設された溝23とを、被研磨物対向面に有している。したがって、研磨面をなす円柱状突起22の頂面と、溝23の底部との間には、平板部21の表面が形成する段部が存在している。これにより、研磨布20の表面は、多段構造となっている。【効果】被研磨物が押し付けられている領域へも研磨用剤を良好に供給できるので、被研磨物の各領域を均一に研磨できる。
請求項(抜粋):
被研磨物を化学的機械的に研磨するための研磨布であって、被研磨物に当接して被研磨物を研磨する研磨面を有する研磨用突起と、研磨用剤を導くための研磨用剤通路と、上記研磨用突起の研磨面と、上記研磨用剤通路の底部との間に形成された少なくとも1段の段部とを、被研磨物対向面に有していることを特徴とする化学的機械的研磨用研磨布。
IPC (2件):
B24B 37/00
, H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/00 C
, H01L 21/304 622 F
Fターム (8件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA12
, 3C058AB04
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058DA12
, 3C058DA17
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