特許
J-GLOBAL ID：200903008006821800
尖鋭超小型チップの製造方法、該方法により製造された超小型チップ、及び該超小型チップを組み込んだ走査プローブ顕微鏡
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241493
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150807
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】 本発明の主目的は、シリコン鋳型内での鋳造に適したチップ用の任意の材料を用いて、尖鋭端部及び所望の表面輪郭を備えた超小型チップを製造する方法を提供することにある。【構成】 本発明による超小型チップの製造方法は、超小型チップに望まれる形状とほぼ均等の雌型である形状をもつキャビティを単結晶シリコン基板に形成する工程と、キャビティの一部において、超小型チップに尖鋭端部を形成するための形状をもつ二酸化ケイ素の層を形成して鋳型キャビティを形成と、キャビティ内にチップ材料を堆積させて、二酸化ケイ素の層により形成される尖鋭端部の形状を超小型チップに鋳造する工程とを有している。
請求項（抜粋）：
鋳型内での鋳造により超小型チップを製造する方法において、前記超小型チップに望まれる形状とほぼ等しい雌型の形状をもつキャビティを、単結晶シリコン基板に形成する工程と、前記キャビティの一部において、前記超小型チップに尖鋭端部を形成するための形状をもつ二酸化ケイ素の層を形成して鋳型キャビティを形成する工程と、前記キャビティ内にチップ材料を堆積させて、前記二酸化ケイ素の層により形成される前記尖鋭端部の形状を前記超小型チップに鋳造する工程とを有していることを特徴とする超小型チップの製造方法。
IPC (3件)：
H01J 9/02
, G01R 1/067
, H01J 37/28
