特許
J-GLOBAL ID：200903008026384059
電解処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031322
公開番号（公開出願番号）：特開平5-195300
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【目的】 砂目立てが金属ウエブの巾方向に均一で且つ緻密であり、電解効率の良い、そしてライン速度上昇に効果的な電解処理装置を提供する。【構成】 電解処理液5は電解液供給口4内に入り、ディストリビュータ12を経てラジアルドラムローラ2の幅方向全体に均一に分布するようキャビティ13内に入り、スリット14より電解液通路15の中に噴出される。図1ではエッジ給液ノズル16a,16bをそれぞれ主対極3a,3b毎に設けたが、エッジ給液ノズルの数としては2ケ所以上あれば良く、エッジ給液ノズルの位置及び構造も、限定されるものではなく、構造として丸型でも,四角でも,細長いものでもよい。ただしエッジ給液ノズルのセンターの位置は金属ウエブ両縁より50mm内側が好ましい。
請求項（抜粋）：
金属イオンを含む電解処理液中で、金属ウエブと対極との間に交番波形電流を供給して該金属ウエブに連続的に電気化学的処理を施す電解処理装置において、前記金属ウエブの両縁部に対し、主対極側よりウエブに対して複数個のエッジ給液ノズルを設けたことを特徴とする電解処理装置。
IPC (3件)：
C25F 7/00
, B41N 3/03
, C25F 3/04
