電子線描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊丹勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-043317
公開番号（公開出願番号）：特開平6-235800
出願日： 1993年02月08日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】簡便な構成で高精度の電子ビーム倒れ角測定を可能とした電子線描画装置を提供することを目的とする。【構成】電子線照射系と加工室を有し、加工室内に被加工物を載置して二次元的に移動できるX-Yステージを有する電子線描画装置において、X-Yステージ上周辺部に、電子ビーム倒れ角測定治具が取付けられている。電子ビーム倒れ角測定治具は、電子ビーム位置検出用の二つのマーク部材21とマーク部材23を有する。第1のマーク部材21は径r1 の孔22が開けられ、第2のマーク部材23は径r2 (r2 >r1 )の孔が開けられて、これらがスペーサ25により所定の空間ギャップをもって同軸的に配置されている。電子ビーム走査によって、これら高さの異なるマーク部材21,23により測定される電子ビーム位置ずれ量に基づいて、電子ビームの倒れ角が測定される。

請求項（抜粋）：

電子線照射系と加工室を有し、加工室内に被加工物を載置して二次元的に移動できるX-Yステージを有する電子線描画装置において、X-Yステージ上周辺部に、径r1 の孔が開けられた第1のマーク部材とこの上に所定の空間ギャップをもって同軸的に重ねられた径r2 (r2 >r1 )の孔が開けられた第2のマーク部材とを有する電子ビーム倒れ角測定治具が取り付けられていることを特徴とする電子線描画装置。

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-133039
特開平2-109244
特開平2-005346

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