特許
J-GLOBAL ID：200903008037117303
近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-315994
公開番号（公開出願番号）：特開2005-085965
出願日： 2003年09月08日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】円柱状部材を用いてレジストパターンを形成するに際して、大面積に亙ってレジストパターンを形成することが可能となる近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置を提供する。【解決手段】レジストパターンを形成するに際して、円柱状の露光マスク201を構成し、該円柱状の露光マスク内に光源206からの光を入射させ、該露光マスクに形成された微小開口から近接場を発生させながら、被加工物(レジスト208/基板209)上を回転機構202により回転移動させて、被加工物を露光する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
円柱状の透明部材と、該透明部材の表面に形成された遮光層と、該遮光層に形成された微小開口と、を有することを特徴とする近接場露光用マスク。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/16
, G03F7/20
H01L21/30 502D
, G03F1/16 Z
, G03F7/20 501
2H095BA03
, 2H095BC04
, 2H095BC28
, 2H097GA45
, 2H097LA10
, 5F046AA25
, 5F046BA10
, 5F046CA10
