特許

J-GLOBAL ID：200903008038206636

ブラックマトリクス用薄膜およびブラックマトリクス成膜用ターゲット

発明者： 久保井 健 ,  上野 友典
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-242257
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080936
出願日： 1997年09月08日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 クロムに変わることができる優れた光学特性および耐食性を兼ね備えたブラックマトリクス用薄膜およびそのための成膜用ターゲットを提供する。【解決手段】 Ta0.5〜35wt%、あるいはさらにBを5wt%以下を添加し、残部が実質的にNiからなるブラックマトリクス用薄膜である。この薄膜は、Ta0.5〜35wt%、あるいはさらにB5wt%以下添加し、残部が実質的にNiからなる成膜用ターゲットによって得ることができる。

請求項（抜粋）：

Ta0.5〜35wt%、残部が実質的にNiからなることを特徴とするブラックマトリクス用薄膜。

IPC (5件)：

C23C 14/14 ,  C03C 17/09 ,  C23C 14/34 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101

FI (5件)：

C23C 14/14 D ,  C03C 17/09 ,  C23C 14/34 A ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101