特許

J-GLOBAL ID：200903008047115430

負イオン及びオゾンの発生装置

発明者： 亀山 晋 ,  谷村 泰宏
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-092037
公開番号（公開出願番号）：特開2002-286356
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】 殺菌に有効な小イオン状態の負イオンを多量に発生することができ、低温高湿度の対象空間の加湿も好適に行なえる負イオン及びオゾンの発生装置を提供すること。【解決手段】 負イオン及びオゾンの発生装置1は、放電式の負イオン・オゾン発生手段1aと、自然蒸発式の加湿手段1bと、送風装置1cと、吹出気流ガイド1dを備えている。負イオン・オゾン発生手段1aは加湿手段1bよりも空気流通方向下流側に配置されている。

請求項（抜粋）：

負イオン及びオゾンを発生する放電式の負イオン・オゾン発生手段と、自然蒸発式の加湿手段と、前記負イオン・オゾン発生手段及び前記加湿手段に空気を流通させる送風手段とを備え、前記負イオン・オゾン発生手段が、前記加湿手段及び前記送風手段よりも空気流通方向下流側に配置されていることを特徴とする負イオン及びオゾンの発生装置。

IPC (7件)：

F25D 23/00 302 ,  F25D 23/00 ,  A61L 9/015 ,  A61L 9/22 ,  A23L 3/3409 ,  A61L 2/14 ,  A61L 2/20

FI (7件)：

F25D 23/00 302 D ,  F25D 23/00 302 M ,  A61L 9/015 ,  A61L 9/22 ,  A23L 3/3409 ,  A61L 2/14 ,  A61L 2/20 J

Fターム (27件)：

4B021LT03 ,  4B021LW02 ,  4B021MC01 ,  4B021MK13 ,  4B021MK30 ,  4C058AA19 ,  4C058AA21 ,  4C058BB06 ,  4C058BB07 ,  4C058CC04 ,  4C058EE12 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ28 ,  4C058KK01 ,  4C058KK11 ,  4C058KK23 ,  4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080CC14 ,  4C080HH02 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK02 ,  4C080LL02 ,  4C080MM08 ,  4C080MM40 ,  4C080QQ17