特許
J-GLOBAL ID：200903008061358281
プラズマ中の負イオン測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-161607
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013194
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ中の負イオンの密度を正確に局所的に測定することのできるプラズマ中の負イオン測定方法を提供する。【構成】 プラズマ中の所望の測定部にプローブP1 を配置する。このプラズマのプローブP1 の近傍にレーザー5を照射し、このレーザー5の照射によってプラズマ中の負イオンから光脱離した電子を、プローブP1 によって捕集して光脱離電子電流を測定することによって、負イオンの密度を局所的に測定する。
請求項（抜粋）：
プラズマ中の所望の測定部にプローブを配置するとともに、このプラズマの前記プローブの近傍にレーザーを照射し、このレーザーの照射によって前記プラズマ中の負イオンから光脱離した電子を、前記プローブによって捕集して光脱離電子電流を測定することにより、負イオンの密度を測定することを特徴とするプラズマ中の負イオン測定方法。
IPC (2件)：
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