特許

J-GLOBAL ID：200903008079261471

介在物の平均組成分析方法

発明者： 松島 朋裕 ,  山本 公 ,  槙石 規子 ,  佐藤 進
出願人/特許権者： JFEスチール株式会社
代理人 (1件)： 杉村 興作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-355564
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191060
出願日： 2002年12月06日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】介在物の平均組成を正確かつ迅速に求める分析方法について提案する。【解決手段】分析対象試料の反射電子像もしくは二次電子像を200 倍以下の倍率にて撮像し、画像解析を行って試料中の介在物の位置を特定した後、介在物が位置する領域のみを200 倍以上の倍率にて再撮像し、この再撮像の画像処理結果に基づいて介在物の形状および位置を特定し、介在物として特定された分析領域内に限定して、電子線ビームのスキャンを行って、該分析領域内から発生するX線を検出し、この検出結果から介在物の平均組成を求める。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

分析対象試料の反射電子像もしくは二次電子像を200 倍以下の倍率にて撮像し、画像解析を行って試料中の介在物の位置を特定した後、介在物が位置する領域のみを200 倍以上の倍率にて再撮像し、この再撮像の画像処理結果に基づいて介在物の形状および位置を特定し、介在物として特定された分析領域内に限定して、電子線ビームのスキャンを行って、該分析領域内から発生するX線を検出し、この検出結果から介在物の平均組成を求めることを特徴とする介在物の平均組成分析方法。

IPC (2件)：

G01N23/225 ,  G01N33/20

FI (2件)：

G01N23/225 ,  G01N33/20 G

Fターム (25件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001DA01 ,  2G001DA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA12 ,  2G001JA13 ,  2G001KA01 ,  2G001LA02 ,  2G055AA03 ,  2G055BA01 ,  2G055CA02 ,  2G055CA07 ,  2G055CA14 ,  2G055CA25 ,  2G055DA08 ,  2G055EA08 ,  2G055FA02 ,  2G055FA04