特許

J-GLOBAL ID：200903008093042014

光ファイバの加熱処理方法

発明者： 石川 真二 ,  中村 元宣 ,  佐野 知己
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-336141
公開番号（公開出願番号）：特開2001-154056
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】 加熱処理による光学特性の調整が行われた後の光ファイバの加熱部分での機械的強度を向上させる光ファイバの加熱処理方法を提供する。【解決手段】 SiO2系ガラスからなる光ファイバの光学特性を調整するための加熱処理において、被覆光ファイバ1のガラス露出部分10で露出された光ファイバのガラス部11をガスパージ箱20内に設置し、加熱処理の対象となる光ファイバ11の部分に対して、加熱処理の前処理としてガス供給管21からハロゲンガスまたはハロゲン化ケイ素などのガスを吹き付けてハロゲン化処理を行う。このとき、光ファイバ11のガラス表面上のOH基がハロゲン元素に置換されるので、加熱処理時にOH基が発生及び拡散されることによる欠陥の発生を低減して、光ファイバの機械的強度の低下を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

SiO2系ガラスからなる光ファイバに対して加熱処理を行って光学特性を調整する加熱処理方法であって、前記光ファイバのガラス表面をあらかじめハロゲン化処理した後に前記加熱処理を行うことを特徴とする光ファイバの加熱処理方法。

IPC (2件)：

G02B 6/255 ,  G02B 6/00 336

FI (2件)：

G02B 6/00 336 ,  G02B 6/24 301

Fターム (5件)：

2H036KA02 ,  2H036MA12 ,  2H036MA14 ,  2H036MA16 ,  2H038CA01