特許

J-GLOBAL ID：200903008118854230

回折格子の製造方法

発明者： 西井 準治 ,  山中 裕
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院大阪工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-323825
公開番号（公開出願番号）：特開平9-145907
出願日： 1995年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】回折格子への応用が可能な程度の屈折率変化量を示すガラス材料を提供することを主な目的とする。【解決手段】1.光照射によりガラス薄膜表面に周期的凹凸を形成することを特徴とする回折格子の製造方法。2.凹凸形成のための光源が、エキシマレーザー、Nd-YAGレーザーまたは色素レーザーの紫外高調波である上記項1に記載の回折格子の製造方法。3.予めガラス薄膜表面にフェーズマスクを設置し、該フェーズマスクを介して光照射を行う上記項1または2に記載の回折格子の製造方法。4.レーザーの干渉光をガラス薄膜表面に照射することにより、ガラス薄膜表面にその干渉光の周期に応じた凹凸を形成させる上記項1または2に記載の回折格子の製造方法。5.回折格子を書き込むためのガラス薄膜をスパッタ蒸着法により作成する上記項1〜4のいずれかに記載の回折格子の製造方法。6.回折格子を書き込むためのガラス薄膜の組成が、GeO2含有量20〜95モル%のGeO2-SiO2系ガラスである上記項1〜5のいずれかに記載の回折格子の製造方法。

請求項（抜粋）：

光照射によりガラス薄膜表面に周期的凹凸を形成することを特徴とする回折格子の製造方法。