特許
J-GLOBAL ID：200903008122005492
光学素子の成形装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-231526
公開番号（公開出願番号）：特開平9-077520
出願日： 1995年09月08日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：
【要約】【目的】 特別な機器を必要とせず、押圧成形後、成形された光学素子を確実に離型させる光学素子の成形装置及び方法を提供すること。【構成】 加熱により軟化した光学素子材料を、上型及び下型から成る成形型を用いて押圧することにより光学素子を成形する装置において、上型の成形面と下型の成形面の夫々の表面粗さが互いに異なる光学素子の成形装置。
請求項（抜粋）：
加熱により軟化した光学素子材料を、上型及び下型から成る成形型を用いて押圧することにより光学素子を成形する装置において、上型の成形面と下型の成形面の夫々の表面粗さが互いに異なることを特徴とする光学素子の成形装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 11/00 Z
, C03B 11/08
