特許
J-GLOBAL ID：200903008123726860
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-168037
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077325
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】異なった位相シフト効果を有する位相シフト領域を設けた1組のマスクを用いて2重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】遮光部と非遮光部とを有する第1のマスクを介してレジストを露光する第1露光、遮光部と非遮光部とを有する第2のマスクを介して該レジストを露光する第2露光とを含み、該第1のマスクと該第2のマスクの非遮光部パターンの形は同一であり、該両露光の間で該レジストの現像は行なっておらず、該第1のマスクは該非遮光部における該遮光部を挟んで少なくとも第1の方向に沿って隣り合う所定領域が各領域を伝播する光に実質的にπの奇数倍の位相差を与えるように構成しており、該第2のマスクは、非遮光部における遮光部を挟んで少なくとも該第1の方向とは異なる第2の方向に沿って隣り合う所定領域が各領域を伝播する光の間に実質的にπの奇数倍の位相差を与えること。
請求項（抜粋）：
パターンでレジストを露光するための露光方法において、遮光部と非遮光部とを有する第1のマスクを介してレジストを露光する第1露光、遮光部と非遮光部とを有する第2のマスクを介して該レジストを露光する第2露光とを含み、該第1のマスクの非遮光部の形と該第2のマスクの非遮光部の形とは該パターンの形と実質に同一であり、該第1,第2露光はこの順序若しくは逆の順序若しくは同時に行なわれ、順次行なう場合、該両露光の間で該レジストの現像は行なっておらず、該第1のマスクは該非遮光部における該遮光部を挟んで少なくとも第1の方向に沿って隣り合う所定領域が各領域を伝播する光に実質的にπの奇数倍の位相差を与えるように構成しており、該第2のマスクは、非遮光部における遮光部を挟んで少なくとも該第1の方向とは異なる第2の方向に沿って隣り合う所定領域が各領域を伝播する光の間に実質的にπの奇数倍の位相差を与えるように構成していることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 C
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 528
