特許
J-GLOBAL ID：200903008143045842

ニトロフェニルフェノール化合物の製造法

発明者：
隈元 信満

隈元 信満 について


出願人/特許権者：
北興化学工業株式会社

北興化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 遠山 勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-055360
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、高収率で、高純度なニトロフェニルフェノールの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】一般式(2)【化2】(式中、Xはハロゲン原子を示す)で表される化合物と、一般式(3)【化3】(式中、nは0〜2の整数を示す)で表されるホウ素化合物、または、一般式(4)【化4】で表されるホウ素化合物とを塩基及び触媒存在下で反応さて、一般式(5)【化5】で表される化合物を得て、この化合物(5)を酸性条件下で脱保護反応させることにより、一般式(1)【化1】で示す化合物を製造する。
請求項（抜粋）：
一般式(1)で示されるニトロフェニルフェノール化合物を製造する方法であって、【化1】一般式(2)【化2】(式中、Xはハロゲン原子を示す)で表される化合物と、一般式(3)【化3】(式中、nは0〜2の整数を示す)で表されるホウ素化合物、または、一般式(4)【化4】で表されるホウ素化合物とを塩基及び触媒存在下で反応させて、一般式(5)【化5】で表される化合物を得る工程と、酸性条件下での脱保護反応により、化合物(5)から化合物(1)を得る工程とを含むことを特徴とする方法。
IPC (6件)：
C07C205/20 ,  B01J 31/24 ,  C07C201/12 ,  C07C205/35 ,  C07F 5/02 ,  C07B 61/00 300
FI (6件)：
C07C205/20 ,  B01J 31/24 X ,  C07C201/12 ,  C07C205/35 ,  C07F 5/02 C ,  C07B 61/00 300
Fターム (41件)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC24 ,  4H006AC80 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA25 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA35 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA48 ,  4H006BA51 ,  4H006BA53 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB20 ,  4H006BB25 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC34 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006BU26 ,  4H006GP03 ,  4H006GP12 ,  4H006GP30 ,  4H039CA41 ,  4H039CG20 ,  4H048AA01 ,  4H048AB81 ,  4H048AB84 ,  4H048VA20 ,  4H048VA22 ,  4H048VA77 ,  4H048VB10
引用文献：
審査官引用 (2件)

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