特許
J-GLOBAL ID:200903008152985203
薄スケール鋼板の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田中 久喬
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-308143
公開番号(公開出願番号):特開平11-123437
出願日: 1997年10月23日
公開日(公表日): 1999年05月11日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、窒素等の不活性ガスで鋼板表面を保護することなしに、また、大掛かりの設備を使用することなしにデスケーリング以後に鋼板表面に生成するスケールの成長を抑制して、薄スケール鋼板を製造する方法を提供する。【解決手段】 Si:0.1%以上を含有する鋼板を1173°C以上の温度に保持することにより、表面にファイアライト(Fe2SiO4)層を形成した鋼板を熱間仕上圧延機直前でデスケーリングした後、熱間仕上圧延することを特徴とする薄スケール鋼板の製造方法。
請求項(抜粋):
Si:0.1%以上を含有する鋼板を1173°C以上の温度に保持することにより、表面にファイアライト(Fe2SiO4)層を形成した鋼板を熱間仕上圧延機直前でデスケーリングした後、熱間仕上圧延することを特徴とする薄スケール鋼板の製造方法。
IPC (5件):
B21B 45/00
, B21B 1/26
, B21B 45/06
, C23C 8/14
, C23G 3/02
FI (5件):
B21B 45/00 B
, B21B 1/26 E
, B21B 45/06 Q
, C23C 8/14
, C23G 3/02
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