特許

J-GLOBAL ID：200903008155589139

光学装置の製造法

発明者： 鯉渕 滋 ,  木村 忠広
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-142839
公開番号（公開出願番号）：特開平11-337753
出願日： 1998年05月25日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 接着性に優れ、長時間使用しても安定な光学装置の製造法を提供する。【解決手段】 基板表面上にジルコニウムアルコキシド化合物の被膜を形成した上に、フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜を形成することを特徴とする光学装置の製造法。

請求項（抜粋）：

基板表面上にジルコニウムアルコキシド化合物の被膜を形成した上に、フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜を形成することを特徴とする光学装置の製造法。