特許
J-GLOBAL ID：200903008156234865
露光装置および露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-320042
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179514
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 露光むらの少ない露光装置を提供する。【構成】 パルス発振方式の光源1から発振されたパルス光の強度分布は、ウエハ11と同一面上に設置された強度分布測定センサ12により測定される。強度分布測定センサ12の測定結果から、露光量制御系104でパルス光の強度分布を求め、この強度分布からウエハの受光パルス数と露光むらの関係を計算し、ステージ駆動制御系101、光量制御系102、およびレーザ制御系103に対して、目標の露光量を得るための、ステージ走査速度、パルス光の光量、およびパルスの発振周波数の条件設定および制御を行う。
請求項（抜粋）：
パルス光により転写パターンが形成されたマスクを照明し、該マスクと基板とを前記パルス光に対して相対的に走査することによって、前記パルス光による照明領域を相対的に変位させながら重ね合わせ、前記転写パターンを前記基板に転写する露光装置において、前記パルス光の走査方向の強度分布を求めるための強度分布測定手段と、前記パルス光の走査方向の強度分布により、前記基板の積算露光量、または受光パルス数と、前記基板上の露光むらとの関係を予め求め、且つ目標とする積算露光量に対して最も露光むらが少なくなるような前記受光パルス数を求める演算手段と、前記受光パルス数を制御することにより前記積算露光量を制御する露光量制御手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
