特許

J-GLOBAL ID：200903008160436243

ジスアゾ顔料組成物の製造方法

発明者： 高見 尚徳 ,  福田 哲男 ,  小沼 健 ,  青木 和孝
出願人/特許権者： 大日精化工業株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-163778
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345988
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】 印刷物の上記耐熱水ブリード性等のレトルト適性が改善されたグラビアインキ等を与える有用な新規なジスアゾ顔料組成物を提供すること。【構成】 3,3’-ジクロルベンジジン又は3,3’-ジメトキシベンジジンのテトラゾ化合物をアセトアセトアニラド系化合物にカップリングさせてなるジスアゾ顔料の製造方法において、上記アセトアセトアニライド系化合物の0.5〜30モル%が下記の一般式(1)で表される化合物で置換されている事を特徴とするジスアゾ顔料組成物の製造方法。CH3COCH2CONH-X-A-Y (1)

請求項（抜粋）：

3,3’-ジクロルベンジジン又は3,3’-ジメトキシベンジジンのテトラゾ化合物をアセトアセトアニラド系化合物にカップリングさせてなるジスアゾ顔料の製造方法において、上記アセトアセトアニライド系化合物の0.5〜30モル%が下記の一般式(1)で表される化合物で置換されている事を特徴とするジスアゾ顔料組成物の製造方法。CH3COCH2CONH-X-A-Y (1)(式中、Xは無置換又は1個以上の低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいベンゼン環又はナフタリン環を表す。Yはカルボン酸基及びスルホン酸基から選ばれる少なくとも一個の酸性基を含有し、且つ低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基及びニトロ基から選ばれる置換基で置換されてもよいベンゼン環又はナフタリン環を表す。Aは-NHCO-、-CONH-、-SO2NH-又は-NHSO2-から選ばれる二価の連結基を表す。)

IPC (3件)：

C09B 67/22 ,  C09B 41/00 ,  C09D 11/02 PTF