特許

J-GLOBAL ID：200903008167537533

露光装置の設計方法及び露光用マスクの設計方法

発明者： 木村 光紀
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-167561
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134390
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 光源形状を特定のものに仮定するという従来の固定観念を打破して、新規な手法により計算を行うことによって、露光装置及び露光用マスクの最適設計を行える手段を提供する。【構成】 任意の形状の光源を用い、光源の形状のデータを読み込みI、該光源からの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被露光材上での光分布を計算しII、該計算に基づいて光源の形状、露光マスクの最適設計を行うIII 露光装置及び露光マスクの設計方法。

請求項（抜粋）：

任意の形状の光源を用い、光源の形状のデータを読み込み、該光源からの光がマスクを通って被露光材上に照射された時の被露光材上での光分布を計算し、該計算に基づいて光源の形状の最適設計を行うことを特徴とする露光装置の設計方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G06F 17/50 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G06F 15/60 400 K ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 527