特許

J-GLOBAL ID：200903008168062334

酸化物超電導膜の製造方法

発明者： 藤野 剛三 ,  高野 悟 ,  葭田 典之 ,  原 築志 ,  石井 英雄
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社 ,  東京電力株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-203860
公開番号（公開出願番号）：特開平6-052742
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 優れた特性の酸化物超電導膜を得ることができる、レーザアブレーション法を用いる酸化物超電導膜の製造方法を提供する。【構成】 YSZ(イットリア安定化ジルコニア)またはMgO(酸化マグネシウム)をターゲット4として用い、レーザ発振装置1から発振されるレーザ光によってアブレーションが生じ、粒子5が、10mTorr以下の酸素雰囲気下で基板6上に中間層を形成するステップと、中間層上に酸化物超電導膜を形成するステップとを備える。

請求項（抜粋）：

レーザアブレーション法を用いる酸化物超電導膜製造方法であって、YSZ(イットリア安定化ジルコニア)またはMgO(酸化マグネシウム)をターゲットとして用い、10mTorr以下の酸素雰囲気下で基板上に中間層を形成するステップと、前記中間層上に酸化物超電導膜を形成するステップとを備える、酸化物超電導膜製造方法。

IPC (6件)：

H01B 13/00 565 ,  C01G 1/00 ,  C23C 14/08 ,  C30B 23/08 ,  C30B 29/22 501 ,  H01B 12/06 ZAA