試料検査装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187464
公開番号（公開出願番号）：特開平10-032161
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】従来検出が困難であった種類のコンタクトホールの寸法不良や、半透明付着物による透過率不良をも検出可能とし、かつ欠陥の種類によって最高感度が異なる問題を解決する。【解決手段】半導体製造に関係するパターンが形成されたマスクの欠陥を検査する試料検査装置において、センサ観測データを処理するデジタルフィルタ30と、設計データに含まれるコンタクトホールパターンを検出するコンタクトホール検出回路34とを備え、コンタクトホールを検出した場合にフィルタ30を作用させて観測データを修正し、コンタクトホール部分の寸法不良,透過率不良を反映したセンサ観測データと、設計パターンデータから作成した参照データとをデータ比較回路11で比較することで、パターン中の欠陥を検出する。

請求項（抜粋）：

所定パターンが形成された試料に光を照射する光照射手段と、前記試料を透過した光を検出することにより、前記パターンの光透過像を構成する検出データを取得する取得手段と、この取得手段により取得された前記検出データを一時的に記憶する第1の記憶手段と、第1の記憶手段の出力にフィルタ処理を施すフィルタ手段と、前記検出データに対応する設計データから検査基準となる設計パターンイメージの基準データを作り出す基準データ作成手段と、この基準データ作成手段で作成された基準データを一時的に記憶する第2の記憶手段と、前記フィルタ手段の出力と前記基準データ作成手段の出力とを所定の比較判定アルゴリズムで判定し、前記試料の欠陥を検出する比較手段と、一定寸法以内の構成の任意のパターンデータを記憶する第3の記憶手段と、第2の記憶手段に記憶されたデータ中における第3の記憶手段に記憶されたデータの存在の有無、或いは一致度を検出する検出手段とを具備してなることを特徴とする試料検査装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , G03F 1/08 , H01L 21/66

FI (5件)：

H01L 21/30 502 V , G01B 11/30 G , G01N 21/88 E , G03F 1/08 S , H01L 21/66 J

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