特許
J-GLOBAL ID：200903008175939276
投影露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-321363
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162107
出願日： 1995年12月11日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構成で投影像の非線形倍率誤差を或る程度補正する。【解決手段】 2点の像高xA ,xB における投影光学系及びレチクルの照射量の変化に伴う倍率変化量BA ,BB をそれぞれの像高位置におけるモデル式に基づいて算出する。2点の像高xA 及びxB での補正後の残留倍率誤差量LA 及びLB の絶対値が同一になるように原点を通る直線33の傾きを求める。この直線33の傾きを示す比例係数sと像高xA との積(s・xA )が、像高xA における投影倍率の線形成分の補正量となる。このように求められた倍率補正量を目標値として、投影露光装置に設けられた線形倍率の補正機構を介して投影倍率を補正する。
請求項（抜粋）：
マスクパターンの像を投影光学系を介して基板上に投影する投影露光方法において、前記投影光学系の投影領域内における複数の異なる像高の位置での倍率誤差をそれぞれ求め、これらの倍率誤差に基づいて前記マスクパターン像の前記基板上への投影倍率を補正することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 521
