特許

J-GLOBAL ID：200903008200046281

レーザアブレーション分析装置

発明者： 大塚 紀一郎 ,  石井 清孝
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292484
公開番号（公開出願番号）：特開平9-133617
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】 試料の焦点調整および分析対象に応じた試料の位置の微調整を自動化し、短時間に連続的な分析を可能とする。【解決手段】 アブレーション用レーザ、アブレーション用レーザと焦点が一致した案内用レーザ、撮像装置、撮像装置によって得られた試料の画像および案内用レーザのスポットを表示する表示装置、アブレーション室の載物台の水平方向の位置調整装置、載物台もしくはレーザ照射装置の垂直方向の位置調整装置、案内用レーザの強度分布に基づいて垂直方向の位置調整装置を駆動する自動焦点調整装置およびアブレーション室で生成した蒸発成分の検出手段を有するレーザアブレーション分析装置。

請求項（抜粋）：

レーザアブレーション分析装置において、アブレーション用レーザ、アブレーション用レーザと光学的に焦点が一致した案内用レーザ、撮像装置、撮像装置によって得られた試料の画像および案内用レーザのスポットを表示する表示装置、アブレーション室を載置した試料載物台の水平方向の位置調整装置、試料載物台もしくはレーザ照射装置の垂直方向の位置調整装置、案内用レーザの強度分布に基づいて垂直方向の位置調整装置を駆動する自動焦点調整装置、アブレーション室で生成した蒸発成分の検出手段、および検出手段での出力信号が最大の分析位置を決定する手段を有することを特徴とするレーザアブレーション分析装置。