特許

J-GLOBAL ID：200903008206247076

圧電体膜成膜用支持基板、圧電体素子、インクジェット記録ヘッド

発明者： 久保田 純 ,  小林 本和 ,  襟立 信二 ,  鈴木 久男
出願人/特許権者： キヤノン株式会社 ,  鈴木 久男
代理人 (3件)： 金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-024382
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235553
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】圧電体素子の熱的安定性、経時安定性を向上させるための圧電体膜成膜用支持基板、この圧電体膜成膜用支持基板を用いて作製した圧電体素子、およびインクジェット式記録ヘッドを提供する【解決手段】少なくとも基板と下部電極層とを備えた構成を有する圧電体膜成膜用支持基板において、前記下部電極層が、-200MPa以上500MPa以下の面内応力を有するプラチナ層により構成されており、かつ、該プラチナ層が、前記圧電体膜成膜用支持基板の最外層に配置されていることを特徴とする圧電体膜成膜用支持基板。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

少なくとも基板と下部電極層とを備えた構成を有する圧電体膜成膜用支持基板において、前記下部電極層が、-200MPa以上500MPa以下の面内応力を有するプラチナ層により構成されており、かつ、該プラチナ層が、前記圧電体膜成膜用支持基板の最外層に配置されていることを特徴とする圧電体膜成膜用支持基板。

IPC (5件)：

H01L41/09 ,  B41J2/045 ,  B41J2/055 ,  B41J2/16 ,  H01L41/24

FI (5件)：

H01L41/08 L ,  H01L41/08 C ,  H01L41/22 A ,  B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A

Fターム (11件)：

2C057AF65 ,  2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AG94 ,  2C057AG99 ,  2C057AP14 ,  2C057AP52 ,  2C057AP58 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14