特許
J-GLOBAL ID：200903008217831560
フォトリソグラフィのための正確に透過平衡された交互位相シフト・マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 仁朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034932
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235249
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 交互位相シフト・マスクにおける透過誤差を除去するための2ステップ方法を提供することである。【解決手段】 最初に、異なる位相、サイズ、形状及び位置のフィーチャ間の固有の透過誤差の粗い低減を提供するために、設計データに選択的に偏差bが与えられる。変更されたデータによるマスクの形成の間に、所与のフィーチャの位相を定義する石英のトレンチのエッジを、不透明なクロム膜の下方の設定位置に位置決めするように幅dだけエッチバックすることにより、残留透過誤差が除去される。
請求項（抜粋）：
位相シフト・フォトマスク上の異なる位相の透明なフィーチャを通じて透過される光の相対量の誤差により生じる、パターン・サイズ及び配置の不正確さを除去する方法であって、前記透明なフィーチャのパターン・サイズ、形状、配置及び位相を表す前記フォトマスクの設計データを生成するステップと、前記位相シフト・フィーチャの少なくとも1つのサイズまたは形状を変更することにより、前記設計データを変更するステップと、前記変更された設計データを用い、前記フォトマスクの不透明なフィーチャ及び透明なフィーチャを形成し、前記フォトマスクの透明材料を、前記透明な位相シフト・フィーチャの位相を確立する深さに選択的にエッチングすることにより、前記透過誤差を部分的に低減する前記フォトマスクを形成するステップと、前記フォトマスクをエッチバック・プロセスに晒すことにより、前記エッチングされたフィーチャ内の前記透明材料のエッジ位置を、前記フォトマスクの前記不透明膜のエッジ位置に対して、前記フォトマスク上の異なる位相を有する前記フィーチャ間の残留透過誤差が補正される位置に調整することにより、前記設計データ変更ステップ及び前記形成ステップの組み合わせにより、以前に補正されなかった前記残留透過誤差を除去するステップと、を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BB14
, 2H095BD03
, 2H095BD31
, 2H095BD40
