ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-358009
公開番号（公開出願番号）：特開2000-180618
出願日： 1998年12月16日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタの製造において、フィルタ素子化するときの切断工程の段階で生じる光学薄膜とポリイミドフィルム基板との剥離を防ぐポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法の提供。また、種々の形状をとることのできるポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法の提供。【解決手段】ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタの製造方法は、表面の平滑な基板上にポリイミドフィルムを形成する工程と、該ポリイミドフィルムを、表面の平滑な基板から剥離し接着層を介して固い基板上に貼り付ける工程と、個別素子に分解するためにポリイミドフィルムから接着層に至る切断溝を形成する工程と、切断溝を形成したポリイミドフィルム上に光学薄膜を形成する工程と、前述の接着層を溶剤で溶解し分解することによって、複数のポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子を同時に固い基板から分離する工程と、を具える。

請求項（抜粋）：

ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法であって、表面の平滑な基板上にポリイミドフィルムを形成する工程と、前記ポリイミドフィルムを、前記表面の平滑な基板から剥離し接着層を介して固い基板上に貼り付ける工程と、個別素子に分割するために、前記ポリイミドフィルムから前記接着層に至る切断溝を形成する工程と、前記切断溝を形成したポリイミドフィルム上に光学薄膜を形成する工程と、前記接着層を溶剤で溶解し分解することによって、複数のポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子を同時に前記固い基板から分離する工程と、を具えることを特徴とするポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 , B32B 7/02 103 , B32B 27/34

FI (3件)：

G02B 5/20 , B32B 7/02 103 , B32B 27/34

Fターム (14件)：

2H048AA05 , 2H048AA18 , 2H048AA27 , 4F100AB01 , 4F100AK49A , 4F100BA02 , 4F100EH112 , 4F100EH66 , 4F100EJ013 , 4F100EJ261 , 4F100GB90 , 4F100JK06 , 4F100JM02B , 4F100JN00B

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平4-211203
光素子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-216179 出願人：株式会社応用光電研究室, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
特開昭55-115004

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