特許
J-GLOBAL ID：200903008232275258
光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001007457
公開番号（公開出願番号）：WO2002-018982
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月07日
要約：
【要約】光学薄膜を基板上に形成する方法は、光学素子の微粒子が分散媒中に分散したゾル溶液を調製し、調製したゾル溶液を密閉可能な容器に入れ加熱加圧し、次いで、加熱加圧させたゾル溶液を光学基板に塗布する工程を含む。得られた薄膜は波長193nmの光に対して屈折率が1.16であり、透過損失が0.5%以下である。この光学薄膜が表面に形成された光学レンズ及びそのレンズを投影光学系または照明系に備える露光装置が提供される。
請求項（抜粋）：
光学薄膜の形成方法であって、 微粒子が分散媒中に分散したゾル溶液を調製する第1工程と; 第1工程で得られたゾル溶液を、加熱及び加圧の少なくとも一方を行う第2工程と; 第2工程で得られたゾル溶液を、光学基板に塗布する工程とを含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 1/10 A
, H01L 21/30 515 D
