特許
J-GLOBAL ID：200903008233198478
光学式マイクロリソグラフィ用位置合せシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-066899
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020907
出願日： 1993年03月25日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 位置合せ精度が高いマイクロリソグラフィ用の位置合せシステムを提供することである。【構成】 共焦点空間フィルタ・システムが、位置合せマーク以外の表面形状フィーチャを区別する。CCD検出器アレイが、光学システムに合致した画素の重み付けにより、柔軟性のある共焦点フィルタを実現する。フィルタの実験的最適化により、CCDアレイの重みを付け直し、測定されたオーバーレイ結果に相関させる。これによって、システムの実証済みの工程に対する非感受性が向上するだけでなく、解像度が改善され、共焦点結像のノイズ拒絶も達成される。
請求項（抜粋）：
a)逆暗視野構成と、b)共焦点空間フィルタ手段とを備え、それによって光学信号が改善され、位置合せの外れが減少して、共焦点暗視野位置合せシステムを実現する、マイクロリソグラフィ位置合せシステム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
