プラズマ処理方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：岩橋文雄 , 坂口智康 , 内藤浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-384933
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144318
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】PDP用青色蛍光体におけるy値シフト抑制と、輝度維持率低下の抑制を両立を実現できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】大気圧プラズマ処理装置は、一端にガス供給装置6と連結可能なガス供給口1を有し、他端に被処理物8に対してガスを噴出させることの可能なガス噴出口2を有する、2つ以上の開口部と1系統以上の内部ガス流路3を有する絶縁体容器4を備え、且つ絶縁体容器4の周囲に電力供給装置7と連結可能な対向電極5a、5bを備えたプラズマ処理装置において、絶縁体容器4内部のガス流路3が、対向電極5a、5bを備えた位置よりガス噴出口2までの間で、少なくとも1箇所を湾曲若しくは屈曲されているプラズマ処理装置である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一端にはガス供給装置と連結可能なガス供給口を有し、他端にはガスを噴出させるガス噴出口を備え2つ以上の開口部と1系統以上の内部ガス流路を有する絶縁体容器を備え、前記絶縁体容器の周囲に電力供給装置と連結可能な対向電極を備えたプラズマ処理装置において、前記絶縁体容器の内部のガス流路が、対向電極を備えた位置からガス噴出口までの間で、少なくとも1箇所を湾曲若しくは屈曲されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

B01J19/08 , H05H1/24

FI (2件)：

B01J19/08 E , H05H1/24

Fターム (25件)：

4G075AA03 , 4G075AA30 , 4G075CA25 , 4G075CA47 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EC01 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075FC15 , 4H001CC02 , 4H001CC03 , 4H001CC04 , 4H001XA08 , 4H001XA12 , 4H001XA13 , 4H001XA56 , 4H001YA63 , 4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030JA03 , 4K030JA09 , 4K030KA17 , 4K030LA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第3221008号公報

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