特許
J-GLOBAL ID：200903008262563827
カーボン基板の鏡面仕上研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129501
公開番号（公開出願番号）：特開平6-339853
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月13日
要約：
【要約】【目的】 ダイヤ砥粒に比して極めて安価なアルミナ砥粒を用い、通常使用される両面研磨機を使用して、大量処理することができ、高効率且つ低コストでカーボン基板を研磨することができるカーボン基板の鏡面仕上研磨方法を提供する。【構成】 カーボン基板の鏡面仕上研磨方法は、炭素材からなるカーボン基板を、水、アルミナ砥粒及び研磨助剤を用いて鏡面仕上げ研磨する。前記アルミナ砥粒は、平均粒径が2μm以下の粉砕アルミナ系砥粒、平均粒径が5μm以下の六角板状アルミナ系砥粒及び平均粒径が1μm以下の微粒子アルミナ系砥粒からなる群から選択されたものを、水及び研磨助剤からなる研磨液中に10重量%以下分散させたものである。また、前記研磨助剤は、重クロム酸基、硝酸基又は塩素基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質である。
請求項（抜粋）：
炭素材からなるカーボン基板を、水、アルミナ砥粒及び研磨助剤を用いて鏡面仕上げ研磨するカーボン基板の鏡面仕上研磨方法において、前記アルミナ砥粒は水及び研磨助剤からなる研磨液中に10重量%以下分散させたものであり、前記研磨助剤は、水中にて重クロム酸基、硝酸基及び塩素基からなる群から選択された酸化性基とアルミニウム塩を構成する水溶性の無機物質であることを特徴とするカーボン基板の鏡面仕上研磨方法。
IPC (4件)：
B24B 37/00
, B24B 37/04
, C09K 3/14
, G11B 5/84
