特許

J-GLOBAL ID：200903008267842040

放射線感受性組成物の光重合可能な成分の改良またはそれに関する改良

発明者： ジョン ロバート ウェイド ,  マイケル ジョン プラット ,  ジャンロン レン
出願人/特許権者： デュ ポン(ユー.ケイ.)リミテッド
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-008665
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093193
出願日： 1993年01月21日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：

【要約】【目的】放射線感受性組成物に有用な光重合可能な化合物、およびそのような化合物の効率的な合成方法を提供する。【構成】一般式(1)を有するポリ不飽和化合物:【化1】ここで、【化2】は、式【化3】で表される活性水素含有化合物の残基を表し、XHは、ヒドロキシル基、メルカプト基または第一級もしくは第二級アミノ基であり;rは、単純な分子に関しては1から10の範囲の整数であり、ポリマー性高分子に関しては1から10,000の範囲の整数であり;Zは、ポリイソシアナートOCN-Z-(NCO)nの残基であり、nは、1または2であり;そして、Yは、式YOHで表されるモノヒドロキシル化合物の残基であり、Yは、少なくとも2つのエチレン性不飽和二重結合を含有する。

請求項（抜粋）：

一般式(1)を有するポリ不飽和化合物:【化1】ここで、【化2】は、式【化3】で表される活性水素含有化合物の残基を表し、XHは、ヒドロキシル基、メルカプト基または第一級もしくは第二級アミノ基であり;rは、単純な分子に関しては1から10の範囲の整数であり、ポリマー性高分子に関しては1から10,000の範囲の整数であり;Zは、ポリイソシアナートOCN-Z-(NCO)nの残基であり、nは、1または2であり;そして、Yは、式YOHで表されるモノヒドロキシル化合物の残基であり、Yは、少なくとも2つのエチレン性不飽和二重結合を含有する。

IPC (5件)：

C08L101/02 LTB ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/028

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特許第4458007号