特許

J-GLOBAL ID：200903008268763968

有害ガスの浄化剤

発明者： 北原 宏一 ,  大塚 健二 ,  畠山 俊哉 ,  福田 秀樹
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-090693
公開番号（公開出願番号）：特開平7-275645
出願日： 1994年04月06日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【目的】半導体製造プロセスから排出される排ガスなどに含まれる三塩化ほう素、塩素、塩化水素、臭化水素、三ふっ化ほう素、六ふっ化タングステン、四ふっ化けい素などの有害な酸性ガスを効率よく除去しうる浄化剤を開発する。【構成】水酸化ストロンチウムを主成分とし、好ましくはこれに水を含有させた組成物を用いた成型体を浄化剤とする。成型の際、必要に応じ上記組成物にアルミナなどの担体やバインダーとして水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたはけい酸ナトリウムを添加する。

請求項（抜粋）：

有害成分として酸性ガスを含むガスから、該酸性ガスを除去するための有害ガスの浄化剤であって、水酸化ストロンチウムを主成分とする組成物を用いた成型体であることを特徴とする有害ガスの浄化剤。

IPC (3件)：

B01D 53/40 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/68

FI (4件)：

B01D 53/34 118 Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 A ,  B01D 53/34 134 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-080830
  
• 特開昭63-236519
  
• 特開昭61-293549