特許
J-GLOBAL ID：200903008289709963
低温核形成による大きいシリカ球体の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-509263
公開番号（公開出願番号）：特表平9-502693
出願日： 1994年09月13日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】例えばテトラアルコキシシランのようなシリカ先駆体の加水分解から最大直径少なくとも2.5μm、特に約2.5〜10μmを有するシリカ微小球の製造方法であって、最初に二相反応混合物を生じるような、先駆体溶液と供給速度とを用いることと、周囲温度未満、好ましくは約10°C未満に冷却した溶液によって加水分解反応を開始することとを特徴とする方法。単分散性又は多分散性のいずれの微小球をも形成することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも約
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 33/18
, C01B 33/152 B
