荷電粒子ビーム描画方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-339935
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188181
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】【目的】カラムの振動による荷電粒子ビームの被描画材料上の照射位置の補正をダイナミックに行い、描画スループットを向上させる。【構成】カラム10の振動の量は、振動計19と20によって測定される。振動計19,20の出力は、夫々カラム10の一次モードの振動の固有周波数近傍のみを通過させ、低周波側,高周波側の両者を共にカットするフィルター21,22に供給される。フィルターを通過したほぼ一次モードの振動のみに基づく振動計出力は、引算回路23に供給され、その差信号が得られる。該差信号は、補正回路24に供給されるが、補正回路24はこの差信号に対応し、メモリー25に記憶されている補正信号を読み出す。補正回路24によって読み出された信号は、加算回路18に供給され、パターン描画のための偏向信号と加算され、偏向器15に供給される。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームを集束する集束レンズと、荷電粒子ビームを偏向する偏向手段などを有した荷電粒子ビーム光学系カラムと、荷電粒子ビーム光学系カラムの下部に設けられ、被描画材料が載せられる移動ステージを有した荷電粒子ビーム描画装置において、事前に荷電粒子ビーム光学系カラムの固有周波数で一義的に決まる振動モードにおける荷電粒子ビーム光学系カラムの特定箇所における振動量と、被描画材料上の荷電粒子ビーム照射位置の補正量との関係を求めて記憶しておき、実際の描画時には、該荷電粒子ビーム光学系カラムの特定箇所における該振動モードによる振動量を測定し、記憶された振動量と補正量との関係に基づいて荷電粒子ビームの偏向補正を行うようにした荷電粒子ビーム描画方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭60-117721
特開昭56-126927

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