特許

J-GLOBAL ID：200903008301637418

結晶歪み測定装置および結晶歪み測定方法

発明者： 井手 隆
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-238863
公開番号（公開出願番号）：特開2000-065761
出願日： 1998年08月25日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】半導体結晶中の微小な領域の結晶歪みを測定する。【解決手段】試料である半導体結晶の透過形電子顕微鏡像が記録されたネガフィルム2の記録面に対してレーザ光が垂直に照射されるように設けられたHe-Neレーザ1と、レーザ光がネガフィルム2に記録された透過形電子顕微鏡像を透過することによって生成される回折像が投影される半透明平面スクリーン3と、投影された回折像を撮像するCCDカメラ4と、レーザ光の照射位置を走査するとともに、該走査に同期してCCDカメラ4から撮像画像データを取り込み、該撮像画像データに基づいて回折像の回折スポットの位置または強度を測定し、各照射位置に対する回折スポット位置または回折スポット強度の関係をマッピングする測定・制御用コンピュータ5とを有する。

請求項（抜粋）：

試料である半導体結晶の透過形電子顕微鏡像が記録されたネガフィルムが取り付けられ、該ネガフィルムのフィルム面に対して平行に移動可能なフィルム取付手段と、前記ネガフィルムの記録面に対してレーザ光が垂直に照射されるように設けられたレーザ光源と、前記レーザ光源からのレーザ光が前記ネガフィルムに記録された透過形電子顕微鏡像を透過することによって生成される回折像が投影される半透明スクリーンと、前記半透明スクリーンに投影された回折像を撮像する撮像手段と、前記フィルム取付手段を移動制御して前記ネガフィルムの記録面上でのレーザ光の照射位置を走査するとともに、該走査に同期して前記撮像手段から撮像画像データを取り込み、該撮像画像データに基づいて回折像の回折スポットの位置または強度を測定し、各照射位置に対する回折スポット位置または回折スポット強度の関係をマッピングする測定・制御手段とを有することを特徴とする結晶歪み測定装置。

IPC (2件)：

G01N 23/04 ,  H01J 37/26

FI (2件)：

G01N 23/04 ,  H01J 37/26

Fターム (22件)：

2G001AA03 ,  2G001AA09 ,  2G001BA11 ,  2G001BA18 ,  2G001CA03 ,  2G001CA07 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA09 ,  2G001GA06 ,  2G001GA14 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA07 ,  2G001JA11 ,  2G001KA03 ,  2G001KA08 ,  2G001LA11 ,  2G001SA29 ,  5C033SS04 ,  5C033SS06 ,  5C033SS10