特許
J-GLOBAL ID：200903008332043427
荷電ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-043617
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254544
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】 従来よりも安定した精度でのアパーチャ回転角度の調整を高速で行うことのできる電子ビーム描画装置を提供する。【構成】 光学鏡筒内に第1及び第2の成形アパーチャ1,2を備え、第1のアパーチャ1により成形されたビームを第2のアパーチャ2上に照射することにより任意の形状のビーム3を成形し、この成形ビーム3を試料面4上に照射して所望のパターンを描画する電子ビーム描画装置において、各アパーチャ1,2により帯状のビームを成形し、試料面位置に配置した微小な金属粒子5上を該ビーム3で2次元的に走査し、その反射電子を電子検出器6により検出して成形ビーム3の形状を認識し、認識された成形ビーム3の対辺部分の平行度が保たれるように各アパーチャ1,2の回転角度を調整することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光学鏡筒内に少なくとも2つのビーム成形アパーチャを備え、上流側のアパーチャにより成形されたビームを下流側のアパーチャ上に照射することにより任意の形状のビームを成形し、この成形ビームを試料上に照射して所望のパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、前記各アパーチャにより帯状のビームを成形し、試料面位置に配置した微小な金属粒子上を該ビームで2次元的に走査し、その反射電子を検出することにより成形ビームの形状を認識する手段と、認識された成形ビームの対辺部分の平行度が保たれるように各アパーチャの回転角度を調整する手段とを設けてなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 N
, H01L 21/30 541 Q
