特許
J-GLOBAL ID：200903008338290680
ポジ型電子線レジストのパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-226610
公開番号（公開出願番号）：特開平7-056361
出願日： 1993年08月20日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 本発明は高感度、高解像度で、かつ、密着性、ドライエッチング耐性に優れるポジ型電子線レジストの現像方法、すなわち優れたレジストパターンの形成方法を提供するものである。【構成】 2-シアノアクリル酸エステル重合体等を主成分とするレジストの現像液として、ギ酸ブチル、プロピオン酸メチル等から選ばれたレジスト可溶性溶剤と炭素数1から4のアルキル基を有するプロピレングリコールモノアルキルエーテル等から選ばれたレジスト不溶性溶剤との混合溶剤を用いる。【効果】 本発明によれば、高感度、高解像度で、かつ、密着性、ドライエッチング耐性に優れたポジ型電子線レジストのパターン形成が可能となり、フォトマスクの製造やLSI、超LSIの製造において生産性、品質の向上に大きな効果をもたらすことができる。
請求項（抜粋）：
2-シアノアクリル酸エステル重合体または該重合体と主鎖構造が実質的に同一の重合体を主成分とするレジストに電子線を照射し、主鎖分裂により低分子量化した部分を現像液により選択的に溶解させるポジ型電子線レジストのパターン形成方法において、ギ酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチルから選ばれたレジスト可溶性溶剤と炭素数2から4のアルキル基を有するアルキルセロソルブ、炭素数1から4のアルキル基を有するプロピレングリコールモノアルキルエーテルから選ばれたレジスト不溶性溶剤との混合溶剤を現像液として用いることを特徴とするポジ型電子線レジストのパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/32
, G03F 7/004 501
, G03F 7/039
, H01L 21/027
H01L 21/30 541 P
, H01L 21/30 569 E
