特許

J-GLOBAL ID：200903008349263994

洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 村田 裕史
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353350
公開番号（公開出願番号）：特開2004-186530
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】超臨界流体により被洗浄体を洗浄する際、添加剤を超臨界流体中に均一に分散、溶解させることが容易で、かつ超臨界状態を安定して維持できる洗浄装置を提供する。【解決手段】本洗浄装置10は、ウエハを洗浄する洗浄装置であって、下部室12aに添加剤を、上部室12bに超臨界流体を収容し、超臨界流体中にウエハを保持する圧力容器12、添加剤を加熱する加熱手段14、超臨界流体を加熱する加熱手段16、下部室と上部室とを連通させ、かつ遮断する仕切り板18、仕切り板を操作する操作装置20、及びウエハステージ22を備える。仕切り板は、下部室と上部室との連通により添加剤を超臨界流体に拡散させ、遮断により添加剤を拡散させないようにする。遮断により、上部室を純粋の超臨界流体で置換できる。圧力容器の頂部には、超臨界流体に光照射して、添加剤の解離性及び超臨界流体の洗浄効果を高める、光照射窓30がある。底部には、添加剤に超音波を印加して、添加剤の拡散を促進する超音波印加装置32がある。ウエハステージにはウエハを加熱して結露防止する加熱手段34がある。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

下部室と、下部室の上方に連続して設けられた上部室とを備え、下部室に添加剤又は添加剤と解離溶媒との混合液(以下、添加剤と総称する)を収容すると共に上部室に超臨界流体を収容し、かつ超臨界流体中に被洗浄体を保持する縦型圧力容器と、 圧力容器の下部室に沿って設けられ、添加剤を加熱する加熱手段と、 圧力容器の上部室に沿って設けられ、超臨界流体を加熱して超臨界流体の温度を調節する温調手段と、 圧力容器の下部室と上部室との間に設けられ、下部室と上部室とを自在に連通させ、かつ遮断する仕切り板と、 圧力容器の外部から仕切り板を操作して圧力容器の下部室と上部室とを自在に連通させ、かつ遮断する操作装置と を備えていることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L21/304 ,  B08B7/00

FI (3件)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 641 ,  B08B7/00

Fターム (5件)：

3B116AA03 ,  3B116BB82 ,  3B116BB83 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03