特許
J-GLOBAL ID:200903008384671434

皮膚洗浄用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-220059
公開番号(公開出願番号):特開平6-157243
出願日: 1993年09月03日
公開日(公表日): 1994年06月03日
要約:
【要約】【構成】ヒトの皮膚又は毛髪に局所適用するのに適しており、特に化粧落としとして使用するのに適した化粧品組成物であって、エチレンオキシド数4〜12の第二もしくは分枝鎖非イオンアルコールエチレンオキシド縮合界面活性剤、又はプロピレンオキシド縮合数1〜6、エチレンオキシド縮合数4〜20の第二もしくは分枝鎖非イオンアルコールエチレンオキシド/プロピレンオキシド縮合界面活性剤を少なくとも1種類含み、該非イオン界面活性剤のHLB値が平均して約10〜約14、特に約10.5〜約14であり、該非イオン界面活性剤と共に、好ましくはモノアルキルホスフェート及び/又はジアルキルホスフェート等から選択した1種類以上の低刺激性陰イオン界面活性剤をも含む化粧品組成物。【効果】刺激性が極めて低く、しかも化粧落とし効果が高い。
請求項(抜粋):
ヒトの皮膚又は毛髪に局所適用するのに適した化粧品組成物であって、エチレンオキシド縮合数4〜12の第二もしくは分枝鎖非イオンアルコールエチレンオキシド縮合界面活性剤、又はプロピレンオキシド縮合数1〜6、エチレンオキシド縮合数4〜20の第二もしくは分枝鎖非イオンアルコールエチレンオキシド/プロピレンオキシド縮合界面活性剤を少なくとも1種類含み、該非イオン界面活性剤のHLB値が平均して10〜14であり、該非イオン界面活性剤と共に、少なくとも1種類の低刺激性陰イオン界面活性剤をも含む化粧品組成物。
IPC (2件):
A61K 7/02 ,  A61K 7/50

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