特許
J-GLOBAL ID：200903008389672030
光学記録方法及び光学記録装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253537
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084742
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 フォトレジスト膜に対する大面積のパターニングを可能にし、フォトレジスト膜全面にわたって高速に、かつ再現性の高い露光を行う。【構成】 レーザ光源11からのレーザ光LrをAOM13にて強度変調し、この強度変調されたレーザ光Lrを対物レンズ3にて集光させてX-Yステージ4に置かれたガラス基板1上のフォトレジスト膜2に照射することにより、フォトレジスト膜2に記録パターンを描画する露光装置において、AOM13からのレーザ光LrをX軸方向に掃引する多面体ミラー15と、対物レンズ3のフォトレジスト膜2に対する焦点調整を行うフォーカスサーボ機構46と、ガラス基板1をX軸方向に連続送りする第1の移送手段(5,7,9)と、ガラス基板1をY軸方向にステップ送りする第2の移送手段(6,8,10)とを具備して構成する。
請求項（抜粋）：
連続発振しているレーザ光を印加記録信号に基づいて強度変調し、この強度変調されたレーザ光を対物レンズにて集光させて直交XY軸平面上に置かれた被記録体に照射することにより、上記被記録体に記録パターンを描画する光学記録方法において、Y軸方向にステップ送りを行って、上記被記録媒体中、上記対物レンズの視野内幅で決定される短冊状の露光領域を順次選定し、次いで上記強度変調されたレーザ光をY軸方向に一定のスキャン幅で偏向すると共に、X軸方向に連続送りを行って上記選定された露光領域に記録パターンを描画し、これらY軸方向へのステップ送りとX軸方向への連続送りをそれぞれ繰り返して、上記被記録体に記録パターンを描画することを特徴とする光学記録方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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