誘導的かつ多容量的に結合されたプラズマリアクタ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113782
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074089
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】従来の容量結合型リアクタと誘導結合型リアクタの両方の利点の全てをリアクタ中の単一プラズマリアクタの中で提供する。【解決手段】コンデンサ電極62、60の各々は、プラズマ着火の簡単化、プラズマイオンエネルギーの高精度制御及びプロセス再現性の為に、半導体ウエハ61の処理中、一対の電極62、60間の一定の高周波位相関係に応じて、高周波パワーをチャンバ50へと容量的に結合し、誘導コイル74はチャンバ50の一部に巻かれ、プラズマイオン密度を独立制御する為に高周波パワーをチャンバ50へと誘導的に結合する。好ましくは、高周波源の数を最小限にし、独立したパワー制御を提供し、パワー分割を含み、別々に共通のソースあるいは複数のソース72、78からのパワーを上記一対の電極62、60および上記コイル74に提供する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内部の半導体ウエハを処理する為の容量性及び誘導性結合高周波プラズマリアクタであって、少なくともチャンバの一部を横切って互いに対面する一対の平行コンデンサ電極と、上記チャンバの一部の周りに巻かれた誘導コイルと、共通の高周波源と、(a)前記コンデンサ電極の中の第1電極、(b)前記コンデンサ電極の中の第2電極、および(c)前記誘導コイルの内の少なくとも2つの間で高周波パワーを反応的に分割する手段と、を備える装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23C 14/24 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (7件)：

H01L 21/302 B , C23C 14/24 T , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , H05H 1/46 A , H05H 1/46 M , H05H 1/46 L

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平4-048727

審査官引用 (1件)

特開平4-048727

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